作者：Mark LaPedus

       美国检察官办公室日前宣布，NetLogic Microsystems Inc.的两名前雇员日前因被控窃取台积电的IC设计与开发数据而被逮捕。两人分别是42岁的Lan Lee和34岁的Yuefei Ge，前者是美国公民，而后者则是中国公民。他们被控共谋窃取商业机密和五项窃取商业机密罪行。他们上周出庭，并交纳了30万美元的保释金。下一次出庭时间定在明天。

       他们共谋窃取商业机密，以及窃取商业机密的具体行为，多可被判10年监禁和25万美元罚金，外加可能的赔偿。

       据起诉书，Lee和Ge被控共谋从其前雇主——通讯芯片生产商NetLogics Microsystems(美国加州)，以及晶圆代工厂商台积电窃取商业机密。但他们不是台积电的雇员。

       Lee和Ge曾经是NetLogic的设计工程师。据NetLogic，他们三年前已从该公司辞职。